究竟是什麼技術能為奈米晶片產生重大影響?
【PConline 資訊】如今，業界不斷重新整理著奈米晶片的記錄，這無疑將在未來計算上帶給我們更多的可能性。為此，各國科研人員不斷進行著努力。近日，一個國際研究團隊在報告中表示，自己在製造奈米晶片方面取得了突破性進展，或將為奈米晶片的生產以及全球所有奈米技術實驗室，帶來重大影響。
據悉，該個研究團隊由美國紐約大學坦頓工程學院化學和生物分子工程教授Riedo帶隊，他們證明了使用加熱到攝氏100度以上的探頭的光刻技術，要優於在二維半導體（例如二硫化鉬（MoS2））上製造金屬點選的方法，成本更低，有望成為當今電子束光刻的替代品。
該團隊將這種新制造方法稱為熱掃描探針光刻（t-SPL），其與當今的電子束光刻（EBL）相比具有更多的優勢：首先，熱光刻顯改善了二維電晶體的質量，抵消了肖特基勢壘，阻礙了金屬與二維襯底交界處的電子流動；與電子束光刻（EBL）不同，熱光刻技術使晶片設計人員能夠輕鬆地對二維半導體進行成像，之後在需要的地方對電極進行圖案化； 此外，熱掃描探針光刻（t-SPL）製造系統有望在初期節省成本；最後，通過使用平行熱探針，能夠輕鬆地將該熱製造方法推廣到批量的工業生產當中。
上圖是Elisa Riedo教授和博士生劉翔宇，在紐約大學Tandon工程學院PicoForce實驗室，使用他們發明的熱掃描探針光刻工藝和SwissLitho的NanoFrazor裝置製造高質量的2D晶片。
Riedo博士希望t-SPL最終可以從實驗室走向工廠批量製造，為實現這個願景仍需要研究人員繼續努力，快速推進材料科學與晶片設計。有一天，這些t-SPL工具的解析度將低於10奈米，在標準的環境條件下以120伏電源執行。
其實，Riedo在熱探測方面的經驗可以追溯到十多年前，先是在IBM Research-Zurich，後來才到紐約城市大學（CUNY）研究生中心高階科學研究中心（ASRC）探索金屬納米制造的熱光刻，與該論文的共同第一作者，Xiao rui Zheng和Annalisa Calò一起工作，並擁有瑪麗居里獎學金。