媒體：國產22奈米光刻機治不了中國的"芯"病
11月29日，中科院研製的“超分辨光刻裝備”通過驗收。訊息傳著傳著，就成了謠言——《國產光刻機偉大突破，國產晶片白菜化在即》《突破荷蘭技術封鎖，彎道超車》《厲害了我的國，新式光刻機將打破“晶片荒”》…… 筆者正好去中科院光電所旁聽此次驗收會，寫了報道，還算熟悉，無法苟同一些漫無邊際的瞎扯。
中科院研製的這種光刻機不能（像一些網媒說的）用來光刻CPU。它的意義是用便宜光源實現較高的解析度，用於一些特殊製造場景，很經濟。
先解釋下：光刻機不光是製造晶片用。一張平面（不論矽片還是什麼材料）想刻出繁複的圖案，都可以用光刻——就像照相，影象投在感光底片上，蝕掉一部分。半個多世紀前，美國人用這個原理“印刷”電路，從而有了大規模積體電路——晶片。
為了節能和省矽料，晶片越做越小，逼得光刻機越做越極端。線條細到一定程度，投影就模糊了。要清晰投影，線條粗細不能低於光波長的一半。頂尖光刻機用波長13.5奈米的極紫外光源，好刻10奈米以下的線條。
但穩定的、大功率的極紫外光源很難造，一個得3000萬元人民幣。要求工作環境嚴苛，配合的光學和機械部件又極端精密，所以荷蘭的ASML公司獨家壟斷極紫外光刻機，創造了“一臺賣一億美金”的神話。
十幾年前，國際上開始對錶面等離子體（ ofollow,noindex">Surface plasma，SP）光刻法感興趣。中科院光電所從2003年開始研究，是較早出成果的一個團隊。所謂SP，光電所的科學家楊勇向筆者解釋：拿一塊金屬片和非金屬片親密接觸，介面上有一些亂蹦的電子；光投影在金屬上，這些電子就有序地震盪，產生波長几十奈米的電磁波，可用來光刻。
但這種電磁波很弱，所以光刻膠得湊近了，才能刻出來。且加工精度與ASML的光刻機沒法比。刻幾十奈米級的晶片是沒法用SP光刻機的，至少以現在的技術不能。
驗收會上也有記者問：該光刻裝置能不能刻晶片，打破國外壟斷？光電所專家回答說，用於晶片需要攻克一系列技術難題，距離還很遙遠。
總之，中科院的22奈米解析度光刻機跟ASML壟斷的光刻機不是一回事，說前者彎道超車，就好像說中國出了個競走名將要超越博爾特。
各家媒體第一時間報出的資訊，就我看到的還算中規中矩。但後來網媒添枝加葉，搞到離譜。有些傳播者為吸引眼球、賺錢，最愛製造“自嗨文”和“嚇尿體”。聽到國產科技成就先往大里吹，驢吹成馬，馬吹成駱駝，好賣個駱駝價。
這種“科技報道”是滿足虛榮心的偽新聞。行家聽了眉頭一緊，避之大吉。也難怪許多科學家怕上新聞。